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Helios 5 DualBeam 双束扫描电镜
精心设计,可满足材料科学研究人员和工程师对各种聚焦离子束扫描电子显微镜 (FIB-SEM) 的需求 - 即使是最具挑战性的样品。Helios 5 DualBeam 重新定义了 高分辨率成像的标准:高材
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Helios 5 EXL DualBeam双束扫描电镜
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赛默飞(原FEI)Volumescope 2 扫描电镜
Volumescope 2 3D SEM的性能数据电子光学系统高分辨率场发射 扫描电镜镜筒高稳定性肖特基场发射枪复合末端透镜:静电、无漏磁、浸没式磁透镜复合透镜兼具电磁透镜和静电透镜的双物镜
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赛默飞(原FEI)Axia ChemiSEM 智能型钨灯丝扫描电镜
产品参数:发射源:预对中钨灯丝分辨率:3.0nm@ 30kV(SE);8.0 nm@ 3kV(SE)放大倍数:5 ~ 1,000,000×(宝丽来相纸放大)加速电压范围:200V ~ 30kV
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Helios Hydra 双光束FIB-SEM
完成不同离子束流的切换。新的赛默飞 Helios Hydra DualBeam 提供四种不同的离子物种作为主光束,允许根据样品和用例选择使用最佳结果的离子,例如 S/TEM 样品制备和 3D 材料表征
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Helios G4 UX 用于材料科学聚焦离子束电子束双束系统
样品制备;离子束刻蚀、离子束沉积、电子束沉积;可进行磁性金属样品的沉积等功能Helios G4 UX DualBeam for Materials ScienceFastest and easiest
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赛默飞(原FEI)Aquilos 2 Cryo-FIB冷冻聚焦离子束显微镜
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Helios G4 FX 等离子聚焦离子束 (FIB) 系统
使用集成的 FEI EasyLift Nanomanipulator 提取样品后,Helios G4 FX 可利用全新的 Compustage 双倾斜夹持器快速反转样品。使用 DualBeam 中分
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Helios G4 HX 等离子聚焦离子束 (FIB) 系统用于半导体行业
。 DualBeam 显微镜Helios G4 HX 的半导体应用专为解决各种高级半导体失效分析实验室面临的挑战而设计Helios G4 HX 取代获得极大成功的 Helios 460HP
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Helios 5 PFIB DualBeam聚焦离子束扫描电子显微镜
规格 材料科学规格Helios 5 PFIB CXe DualBeamHelios 5 PFIB UXe DualBeam电子光学系统Elstar 超高分辨率场发射 SEM 色谱柱,具有:浸没
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